高纯金属，即纯度高、杂质含量低的金属，通常其纯度要求达到99.999%以上。使用普通冶炼方法得到的金属杂质含量较高，会对其金属特性产生影响，高纯金属可以更好地发挥其金属性能，在科学研究、工业应用中具有重要意义。常见的高纯金属有高纯铝、高纯镓、高纯铟、高纯钛等。

随着半导体、功能镀膜靶材、宇航工业、超导产业、现代无线电通信等技术的发展，对金属材料的纯度提出了越来越高的要求。金属中含有的少量杂质会强烈地影响金属的基本性能，如低温电阻，含有微量的杂质就会强烈增加金属的低温电阻。高纯金属就是比一般的工业纯金属纯度更高的一类金属材料，由于它们的纯度高，具有特殊的性能，应用在特殊的领域。

高纯金属靶材主要有高纯铝靶、高纯钽靶、高纯钨钛靶等，其产业链上游是金属提纯厂商，中游是靶材制造厂商、溅射镀膜厂商，下游主要是半导体、平板显示、信息存储、电子器件、光伏电池、光学应用等终端应用领域。高纯金属靶材行业是在半导体产业需求的拉动下产生的，随着科技不断进步，信息存储、平板显示、光伏等产业逐步发展壮大，使得高纯金属靶材应用领域不断拓宽。

我国电子、通讯、光伏等产业蓬勃发展，技术不断进步，对先进材料的需求不断上升，高纯铟作为重要材料之一，需求不断增长。2015年，我国高纯铟需求量约为34.2吨，发展到2019年增长至52.6吨，年均复合增长率为11.4%。我国电子产业技术升级不断加快、5G信号覆盖范围正在不断拓宽，预计2022-2026年，我国市场对高纯铟的需求仍将保持8.0%以上的增速增长。

高纯金属溅射靶材行业作为电子材料的子行业，属于国家重点鼓励、扶持的战略性新兴行业。2021年，《中共中央关于制定国民经济和社会发展第十四个五年规划和二〇三五年远景目标的建议》中提出加快壮大包括新材料产业在内的战略性新兴产业，推动先进制造业集群发展。国家发展改革委、科技部、工业和信息化部、财政部于2020年联合颁布的《关于扩大战略性新兴产业投资培育壮大新增长点增长极的指导意见》中提出围绕微电子制造等重点领域产业链供应链稳定，加快在高纯靶材等领域实现突破。

和仕咨询发布的《2022-2026年中国高纯金属行业深度调研及投资前景预测报告》共十二章。首先分析了有色金属行业整体状况和高纯金属发展面临的环境，接着全面剖析了高纯金属行业发展概况及主要高纯金属产品状况，然后具体介绍了半导体材料、靶材、光伏电池、平板显示、航空工业、超导材料等应用市场的发展。随后，报告对高纯金属行业国内外重点企业经营状况进行了细致解析。最后，报告重点分析了高纯金属行业项目投资案例、投资状况及投资风险，并对其未来发展前景做出了科学的预测。